반도체 장비 테라의 300mm 반도체 장비는 100°C~1,350°C 넓은 온도 영역대의 열처리공정과 CVD공정에 대해 수십 nm급 최첨단 반도체 양산line에서의 검증된 기술을 확보하고 있습니다. Diffusion(확산)공정과 LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 박막 증착 공정 장비까지 모든 공정 대응이 가능합니다 AMOLED장비 테라는 고품질 LCD 및 AMOLED display 분야에 새로이 부각되는 LTPS(Low Temperature Poly Silicon) 공정용 Non-laser 결정화 장비와 LTPS 열처리 공정에 필요한 모든 thermal processing 장비를 제공하고 있습니다 태양전지 테라는 FPD 공정 장비와 반도체 장비에서 얻은 기술과 양산 know-how를 바탕으로 bulk형 결정질 태양전지 제조장비 뿐만 아니라 박막형 태양전지 제조장비를 제공합니다. 특히, CIGS 박막형 태양전지 제조용 Selenization 공정 장비와 Si, CIGS, LED 등에 사용하는 ZnO 투명전도막(TCO) 증착장비를 제공합니다